腔體（tǐ）材質：不鏽鋼表（biǎo）麵處理

供電電（diàn）源：AC220V

工作電流：整機工作（zuò）電流不大於1.2A(不含真空泵)

電源功率：0-300/0-600W可調

頻（pín）率：13.56MHz（偏移量小於0.2KHz）頻（pín）率偏移量：小（xiǎo）於0.2KHz

特性阻抗（kàng）：50歐姆，自動匹配

真（zhēn）空度（dù）：1pa-30Pa

氣體路數：雙路氣體輸入

氣體流（liú）量：浮子流量計0-160ml

過程控製：PLC人機界麵自動與手動方式

清洗時間：1-99999秒鍾可調

功率大（dà）小：10%-100%可調

內腔尺寸：L×W×H  370×320×130mm （15L容量）

外形尺寸：650長x600寬x高（gāo）750mm（台式）    

重量：95Kg

真空泵：飛越泵VRD-16 (抽速4.4L/S)含（hán）油霧過濾器或排煙管

真空室（shì）溫度：小於65°C

冷卻方式（shì）：強製風冷

負壓調節：極限真空調節閥

什（shí）麽（me）是等離子體？物質有四種的表（biǎo）現形式：固態、液態、氣態、等離子態
  日韩精品高清在线观看可以簡單地（dì）從水分子的情況回顧一下物質（zhì）的四種狀態。在絕對零度（-273℃）水和（hé）所有物質（zhì）都是固態，原（yuán）子停止振動（dòng）。隨著提供原子能亮（加熱），原子開始再次振（zhèn）動，並且分子恢複動力。溫度（dù）一（yī）直上升到0℃，H2O分（fèn）子保（bǎo）持在（zài）固態（冰）。更（gèng）多能量的施加引起固態（tài）中H2O分子（zǐ）振動的區域發生轉變，H2O從固態變成液態（水）。給液體增加能量不斷地激（jī）活分子直到水再一次改變狀態，這一次從液態變為（wéi）氣態（蒸汽）。
  能量的進一步施加，致使分子太活躍不能（néng）保持它的分子完（wán）整性。基於這一點H2O將（jiāng）分裂為它的組成部分（氫和氧原子），同（tóng）時釋放出高能自由電子。由於電子和離（lí）子重新組（zǔ）合釋放出光子，一個可見的放電（diàn）發光區被激發，物質的這（zhè）種狀態的亞原子狀態被稱為“等離子體”。
  隨著頻率或微博源的停止施加，各種亞原子態的離子重新合成更穩定的分子形式。
  發生在日韩精品高清在线观看身邊（biān）的等離子體有恒星、氖發光、極光等等。


為什麽用等離子體清洗？
直（zhí）接把（bǎ）高能等（děng）離子（zǐ）體流施加到被清（qīng）洗表麵以達到等離子體（tǐ）清洗的目的。例如：用氧氣等離子體可以使有機（jī）物沉積（jī）被氧化掉；用惰性的氬氣等離（lí）子體可以（yǐ）使顆粒汙染被機械地衝洗掉，等等（děng）。寬範圍的選擇氣體種類，可以滿（mǎn）足很（hěn）多等離子體清洗的要求。
  頻射場區中離子的物理加速促進了清洗工藝。事實上，等離子體的強度（dù）直接決定於：
a） 反應器的幾何尺寸
b） 產生等離子體的（de）頻射電源
c） 氣（qì）體的流速
d） 真（zhēn）空泵的抽速
e） 真空度
f） 使用的反應物（wù）和稀釋氣體


等離子體清洗（xǐ）設備的類型
形成等離子體的基本因素是低於大氣壓狀態的氣體放（fàng）電。反（fǎn）應室的尺寸有各種各樣的形式（shì），電極（jí）的結構取決於樣品托盤和常規的反應室結構。
三種流行的設計（jì）是：
（1） 感應耦合“桶式”反應室
（2） 電容耦合“平行平板”反應室
（3） “順（shùn）流”反應室（shì）
這（zhè）三（sān）種類型的反應室都（dōu）可以用（yòng）頻射和微博電源產生等離子體。
感應耦合“桶（tǒng）式”反應室
一種早期設計成（chéng）“桶式”反應（yīng）室的等離子體清洗機，頻（pín）射能量在反應（yīng）室外壁和內部電中性有孔的法拉第籠之間流動。等離子體在桶的（de）內壁和法拉第籠外壁之間產生。
這個有孔的籠是電（diàn）中性的（不接地），它僅僅形成一個（gè）機械的屏障（zhàng）阻擋等離子體進入工作（zuò）區，容許（xǔ）一些亞（yà）原子種類的混合（hé）物進入負載區。這樣從電源方向看（kàn）起來，有孔的法拉第鞘和工（gōng）作區像是一個感應電容。
  因此，電源的匹配網絡必須予先調節（jiē）好，才（cái）能符合每一個不同的工作負載。獲得均勻清洗效（xiào）果。還（hái）有（yǒu），由於氣體的原子必須通過從內鞘到工作負載這一段廠距離，這種方（fāng）法的清（qīng）洗效率非常低。並且工作區中樣品的外邊得到更（gèng）多的處理，而樣品（pǐn）中間得到的少。
  由於以上的原因，工業已經很少使用這（zhè）種等離子體（tǐ）清洗技術。
電容耦合平行平板反應室
   在這種方法中，樣品杯直接地放置在一個電極上。平行平板的結構產（chǎn）生了一個均勻的等離子體覆蓋樣品（pǐn）負（fù）載，樣品收到磁、RF、電子、x射線、光子的轟擊。工作區會產生（shēng）熱能。
平行平板榮幸順流反應室
  這種設計（jì）師學（xué）習了上麵所描述的技術產生的（de）結果。工程師設想一個理想的、適應廣泛（fàn）的等離子體清洗機都應該包括什麽內容。他們理想的狀態如下：
1. 應該有一個均勻的等離子體區，使樣（yàng）品的邊緣和中心具有相同的清洗均勻性。
2. 不管負載的輕重，係統電源的設定應該是不受約束的。設定值不管放在一個樣品或放慢樣品都應該是一個值。
3. 設備應該具有盡可能的（de）生產能力。
4. 在等離子體工藝期間，即使（shǐ）是大多數敏感器件也不發生（shēng）電子損傷。
以上（shàng）看起來是（shì）不（bú）可能達到的（de）目標，因為（wéi）這些理（lǐ）想的狀態好像有一些（xiē）衝突（tū）。經過一些工程師（shī）的努力，“順流等離子體”的概念被創造出來，清洗樣（yàng）品放置在容性負載（zǎi）的外麵，這樣解決了上麵的第二個問題。
 平行平板的結構（替代桶式）提供了一（yī）個在所有樣品便麵均勻的等離子體，並且難呢過提供最大的樣品裝載能力（lì），因此滿（mǎn）足（1）和（3）的要求（qiú）
下電極接地（電中性（xìng））確保有所的高能電子不能接觸到樣（yàng）品的表麵，第（4）點也被照顧到了。

這種等離子體清洗機是現（xiàn）在流行的，可以滿（mǎn）足比較苛刻的清（qīng）洗工藝要求。